二、实验制作

抛光硅片（直径 100 mm，厚度 500 lm， 100 方向，P/B 掺杂，大学晶圆）衬底 （通常切成 1.2 3 1.2 厘米）通过冲洗制备 用甲苯、丙酮和去离子水，在下干燥 氮，然后用 Harrick 氧等离子体处理 250 mTorr 持续 20 分钟。 氧化层厚度用椭偏仪测量（折射率，n1 5 1.46-设置，LSE Stokes 椭偏仪，Gaertner, Inc.）。 将表面改性的基材转移到密封的 20 mL 闪烁瓶中，该瓶中装有 1 L 正十八烷基三氯硅烷 (ODTS)（95%，Gelest， Inc.）和 999 lL 甲苯（使用来自 Fisher Scientific） （按体积计 0.1% ODTS）。 每个小瓶都放入冰水中 浴 1 小时，将温度调节至 1 8C。 1 小时后， 按照相同的预处理过程冲洗和干燥每个小瓶中的改性硅晶片，但不包括 20 分钟 氧等离子体处理。 然后将晶片在 120 8C烘箱2小时，冷却至室温，在甲苯中超声60秒。 晶片再次冲洗并 干了。 ODTS 层的厚度测量 椭偏仪（ODTS，折射率，n2 5 1.457，Gelest, Inc.）作为 28.8 6 0.83 ?（20 个样品的平均值）[图。 1(A)]。 控制 表面能，改性ODTS层用 不同曝光时间的 UVO（Jelight 342 UVO 系统）。 紧接着，基板被用于测量 动态接触角或流涂。

图 1 (A) 制备具有可调表面能的基材然后应用流涂工艺的示意图。 (B) 动态 接触角包括作为 UVO 时间函数的基材的前进（实心数据点）和后退（开放数据点）。 使用水（黑色数据点）和甲苯（蓝色数据点）的液体。 误差棒表示三个的标准偏差 独立样本。 (C) 在具有可调表面能的基材上制造的结构，从无沉积、超支化结构到通过流涂的水平线。 此处使用的其他流涂参数是初始浓度 co，如 0.5 mg/mL，停止时间 t 为 100 ms，设置距离 d 为 5 lm。

动态接触角测量

使用去离子水和甲苯确定 ODTS 处理过的基材的前进和后退接触角 在室温下（VCA-optima TM, AST, Inc.）。

聚苯乙烯柔性叶片流涂

流涂以程序速度 (v) 进行 （基板移动的速度），设置距离（d）（距离 基板移动）和停止时间（t）（基板的时间 暂停）下移动 - 停止交替步骤（支持信息，图 S1）。 在这项工作中，编程速度 v 是 保持恒定在 1 毫米/秒。 流涂技术在参考文献 11 和 12 中详细讨论。 最近报道了流涂技术的改进，12 聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET) 叶片用作顶部限制边界。 灵活的 PET 刀片（75 lm 3 2 cm 3 4 cm） 将在本作品中使用。 溶剂区是通过刻划 PET 刀片距弯液面边缘 1 毫米。 使用的解决方案 这里报道的流涂实验是聚苯乙烯 甲苯溶液（聚苯乙烯， Mn 5 1100 kg/mol，PDI 5 1.15，Polymer Source, Inc.）。 就地 结构形成的观察是用 正置光学显微镜（Zeiss Axio Tech Vario、Pixel Link CCD 相机）。

通过柔性叶片流涂膜的超支化聚合物结构——摘要、简介

通过柔性叶片流涂膜的超支化聚合物结构——实验制作

通过柔性叶片流涂膜的超支化聚合物结构——结果和讨论

通过柔性叶片流涂膜的超支化聚合物结构——结论、致谢！